中国未来的知识产权发展将面临两大关键性挑战
发布日期：2022-03-04
来源：光电产业网
作者：苏州市光通信知识产权
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近日，中国发展研究基金会在北京举行《面向未来的知识产权制度：大变局下的中国知识产权保护与发展》报告发布会。该报告汇聚了多家权威机构专家学者在中国知识产权保护与发展方面的思考和洞察。报告对中国改革开放以来知识产权制度的演变及知识产权发展成就进行了总结，同时分析全球地缘政治新格局和新科技革命对既有知识产权合作模式和制度安排的深刻挑战，在此基础上提出面向未来的知识产权制度的建议。报告认为，中国改革开放以来的知识产权发展，在世界知识产权史上是罕见的。在近40年的时间里，中国专利申请量、商标申请量、实用新型专利申请量等各项指标都跃居世界首位。2019年，中国通过《专利合作条约》(PCT)途径提交的专利申请量达到5.9万件，首次跃居世界首位。2020年，中国的PCT专利申请量上涨至6.9万件，同比增长16.1%，是产权组织PCT体系的最大贡献者，进一步巩固了领先优势。不仅如此，中国的知识产权也加快走出国门，形成了知识产权领域的“双循环发展格局”。报告认为，中国知识产权保护体系日益完善、总研发投入的快速增长、科技研发和创新能力的持续提升、创新生态不断完善、全社会知识产权和创新意识普及等因素推动了知识产权的爆发式发展。报告指出，中国未来的知识产权发展将面临两大关键性挑战：一是发展中国家群体性崛起带来的地缘政治变局和知识产权版图重塑。这将深刻影响未来的国际知识产权合作模式。二是新技术新业态的兴起。随着经济社会的信息化和智能化，5G、大数据和人工智能等新技术的应用逐渐普及，知识产权的客体、主体、权利属性、权利责任等都面临调整。中国有望在未来二十年成为全球知识产权领域最重要的利益相关方。报告呼吁，在新的世界变局中，需要进一步完善知识产权制度体系，加大知识产权保护力度和成效，加强国际知识产权合作，形成和完善面向未来技术和产业形态的知识产权制度。
详见：https://mp.weixin.qq.com/s/QCLX_k2gG43ruAH6P0kTEg
来源：知识产权进行时
