据报导,新的出口管制涉及最先进的浸入式「深紫外光微影」(DUV)设备,ASML 对此表示,新管制包括最先进的沉积和浸润式微影(immersion lithography)设备,公司将为最先进的浸入式 DUV 系统申请出口许可证。
ASML 也强调,这项新管制没有包含所有的浸入式微影工具,而是所谓的「最先进」工具,但还没接收到有关「最先进」的定义和信息。该公司认为可能是 TWINSCAN NXT:2000i 及随后推出的浸入式设备。
ASML 表示,那些专注于成熟制程的客户可以使用不太先进的浸入式光刻设备,并称公司的长期方案主要基于全球普世需求和技术趋势,而不是为了位置。ASML 的 EUV 设备自 2019 年就开始受到限制。
最后 ASML 表示,目前荷兰政府的措施不会影响 2023 年财务前景,或者对长期前景产生重大影响。
荷兰对外贸易部长施莱纳马赫(LiesjeSchreinemacher)8日接受「电讯报」(De Telegraaf)专访指出,新禁令下还是有许多更低阶的设备可以销往中国,无需取得许可,包括制造汽车、冰箱、电话和风力发电机所需芯片的设备。
来源:芯片说 IC TIME